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產(chǎn)品分類
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v 設(shè)備用途:本系統(tǒng)配有一套電子槍及電源,可滿足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質(zhì)膜基片上均勻沉積多層膜的需要
v 真空室尺寸:定制
v 極限真空度:≤6.0E-5Pa
v 沉積源:6個(gè)40cc坩堝
v 溫度:300℃
v 電控描述:全自動(dòng)
v 工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤±3%
v 特色參數(shù):樣品尺寸及數(shù)量可定制,工件架有拱形基片架和行星形基片架